產(chǎn)品[
YQDH-500JJC 多靶磁控濺射鍍膜機 型號：YQDH-500JJC
]資料
產(chǎn)品名稱:
YQDH-500JJC 多靶磁控濺射鍍膜機 型號：YQDH-500JJC
產(chǎn)品型號:
YQDH-500JJC
產(chǎn)品展商:
國產(chǎn)
產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹
YQDH-500JJC 多靶磁控濺射鍍膜機 型號：YQDH-500JJC 該鍍膜機主要用于科研實驗，可制備納米和微米的單層及多層工能膜-**硬質(zhì)膜，光學膜，金屬膜，鐵磁薄膜，半導體膜，介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。
YQDH-500JJC 多靶磁控濺射鍍膜機 型號：YQDH-500JJC
的詳細介紹
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多靶磁控濺射鍍膜機
型號：YQDH-500JJC |
貨號：ZH5498 |
產(chǎn)品簡介
該鍍膜機主要用于科研實驗，可制備納米和微米的單層及多層工能膜-**硬質(zhì)膜，光學膜，金屬膜，鐵磁薄膜，半導體膜，介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。
該鍍膜機為前開門式設(shè)計，功能強，鍍膜穩(wěn)定，重復性好，操作簡便。真空室材料均采用優(yōu)良材SUS304不繡鋼材料制造，規(guī)范，**，了材料的成膜*度。
采用分子泵+直聯(lián)機械泵機組，具有抽速快，*油，操作方便快捷，易于維護的特點。
1 鍍膜方式：可實現(xiàn)多靶共濺模式
2 磁控靶：圓柱/平面靶；
3 進氣系統(tǒng)：三路流量計；
4 鍍膜室體積：500×500×600mm3
5 限真空度：6.7×10-5Pa; 恢復真空度：從大氣抽到6.7×10-4Pa;﹝40分鐘﹞
6 真空抽氣系統(tǒng)：機械泵與分子泵組成；
7 真空測量系統(tǒng)：數(shù)顯復合真空計；
8 工作電源：真流電源500W；射頻電源500W﹝13.56MHz﹞；加熱控溫電源；
9 工作烘烤溫度：室溫～800℃可控可調(diào)﹝PID控溫﹞；
10 選配件：石英晶振測厚儀，冷卻水機組等；
11 供電電源：三相AC380V，50Hz
http://www.centrwin.com/ProductSearch.aspx?id=5498
YQDH-500JJC 多靶磁控濺射鍍膜機 型號：YQDH-500JJC |
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