產(chǎn)品[
YQDH-500JJC中慧多靶磁控濺射鍍膜機(jī)
]資料
產(chǎn)品名稱:
YQDH-500JJC中慧多靶磁控濺射鍍膜機(jī)
產(chǎn)品型號(hào):
YQDH-500JJC
產(chǎn)品展商:
中慧
產(chǎn)品文檔:
*相關(guān)文檔
簡單介紹
產(chǎn)品簡介
該鍍膜機(jī)主要用于科研實(shí)驗(yàn)，可制備納米和微米的單層及多層工能膜-**硬質(zhì)膜，光學(xué)膜，金屬膜，鐵磁薄膜，半導(dǎo)體膜，介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。
YQDH-500JJC中慧多靶磁控濺射鍍膜機(jī)
的詳細(xì)介紹
多靶磁控濺射鍍膜機(jī)
型號(hào)：YQDH-500JJC
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貨號(hào)：ZH5498
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產(chǎn)品簡介
該鍍膜機(jī)主要用于科研實(shí)驗(yàn)，可制備納米和微米的單層及多層工能膜-**硬質(zhì)膜，光學(xué)膜，金屬膜，鐵磁薄膜，半導(dǎo)體膜，介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。
該鍍膜機(jī)為前開門式設(shè)計(jì)，功能強(qiáng)，鍍膜穩(wěn)定，重復(fù)性好，操作簡便。真空室材料均采用優(yōu)良材SUS304不繡鋼材料制造，規(guī)范，**，了材料的成膜*度。
采用分子泵+直聯(lián)機(jī)械泵機(jī)組，具有抽速快，*油，操作方便快捷，易于維護(hù)的特點(diǎn)。
1 鍍膜方式：可實(shí)現(xiàn)多靶共濺模式
2 磁控靶：圓柱/平面靶；
3 進(jìn)氣系統(tǒng)：三路流量計(jì)；
4 鍍膜室體積：500×500×600mm3
5 限真空度：6.7×10-5Pa; 恢復(fù)真空度：從大氣抽到6.7×10-4Pa;﹝40分鐘﹞
6 真空抽氣系統(tǒng)：機(jī)械泵與分子泵組成；
7 真空測量系統(tǒng)：數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)；
8 工作電源：真流電源500W；射頻電源500W﹝13.56MHz﹞；加熱控溫電源；
9 工作烘烤溫度：室溫～800℃可控可調(diào)﹝PID控溫﹞；
10 選配件：石英晶振測厚儀，冷卻水機(jī)組等；
11 供電電源：三相AC380V，50Hz
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